法面庭の家 by 井上玄／GEN INOUE
2層以上にすると1.5mの地盤改良が必要な敷地において、3棟に分散して並列に配置し、左右は平屋、中央を2階建てとして、中央部のみ適切な地盤まで掘り下げることで地盤改良を回避している。結果、生じた1.5mの高低差に対しては造成を最小限に留め、切土して植栽し法面庭を設けている。高低差のある断面構成がプライバーの確保につながり、開放的な空間が実現されている。
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設計 井上玄/GEN INOUE
施工 大同工業
所在地 横浜市鶴見区